[发明专利]二氧化硅基隔离膜及其制作材料和该材料的生产工艺无效
申请号: | 95193887.8 | 申请日: | 1995-06-30 |
公开(公告)号: | CN1069675C | 公开(公告)日: | 2001-08-15 |
发明(设计)人: | 松泽纯 | 申请(专利权)人: | 日立化成工业株式会社 |
主分类号: | C09D183/00 | 分类号: | C09D183/00;H01L21/316;C09D185/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王以平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供了一种用来制作二氧化硅基涂覆的隔离膜的材料,这种材料用来制作VLSI中多层互连的层间隔离膜。一种用来制作二氧化硅基涂覆的隔离膜的材料由下列成份得到(a)烷氧基硅烷和/或其部分水解的产物,(b)含氟的烷氧基硅烷和/或(e)烷基烷氧基硅烷,(c)除硅之外的金属醇盐和/或其衍生物,以及(d)有机溶剂。根据本发明的用来制作二氧化硅基涂覆的隔离膜的材料具有储存稳定性并可制作成厚层。得到的二氧化硅基隔离膜是透明且均匀的膜,而且其中未观察到裂纹或针孔之类缺陷的那些膜,还具有优异的抗氧等离子性。 | ||
搜索关键词: | 二氧化硅 隔离 及其 制作 材料 生产工艺 | ||
【主权项】:
1.一种用来制作二氧化硅基涂覆的隔离膜的材料,其特征是由下列成份得到:(a)烷氧基硅烷和/或其部分水解的产物,(b)含氟的烷氧基硅烷,(c)Ti的醇盐和/或其乙酰丙酮盐及Zr的醇盐和/或其乙酰丙酮盐的至少一种,以及(d)有机溶剂,其中:ⅰ)相对于100份重量的有机溶剂(d)而言,(a)和(b)的总含量为1-40份重量;ⅱ)相对于1摩尔(a)而言,所加入的(b)的含量为0.1-10摩尔;ⅲ)相对于总含量为1摩尔的(a)和(b)而言,所加入的(c)的含量为0.01-0.5摩尔。
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C09 染料;涂料;抛光剂;天然树脂;黏合剂;其他类目不包含的组合物;其他类目不包含的材料的应用
C09D 涂料组合物,例如色漆、清漆或天然漆;填充浆料;化学涂料或油墨的去除剂;油墨;改正液;木材着色剂;用于着色或印刷的浆料或固体;原料为此的应用
C09D183-00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物;基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
C09D183-02 .聚硅酸酯
C09D183-04 .聚硅氧烷
C09D183-10 .含有聚硅氧烷链区的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少两个,但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D 涂料组合物,例如色漆、清漆或天然漆;填充浆料;化学涂料或油墨的去除剂;油墨;改正液;木材着色剂;用于着色或印刷的浆料或固体;原料为此的应用
C09D183-00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物;基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
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C09D183-04 .聚硅氧烷
C09D183-10 .含有聚硅氧烷链区的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少两个,但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接