[发明专利]γ射线辐照制备金属镍薄膜的方法无效

专利信息
申请号: 96101060.6 申请日: 1996-01-30
公开(公告)号: CN1049019C 公开(公告)日: 2000-02-02
发明(设计)人: 陈祖耀;陈旻;朱玉瑞;钱逸泰 申请(专利权)人: 中国科学技术大学
主分类号: C23C18/14 分类号: C23C18/14
代理公司: 中国科学技术大学专利事务所 代理人: 汪祥虬
地址: 230026*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明制备金属镍薄膜的方法,是把衬底浸在含有一定浓度醋酸镍、异丙醇、醋酸铵和氨水的水溶液中,置于γ射线源中辐照3×104-5×105Gy,能获得膜厚可控的镜面状金属镍薄膜,该方法可在常温常压下操作,工艺简单易行,无论是导电或不导电的衬底,均可一步完成金属镍薄膜的生长。
搜索关键词: 射线 辐照 制备 金属 薄膜 方法
【主权项】:
1.一种金属镍薄膜的制备方法,其特征在于将衬底置于含有镍离子的水溶液中,以γ射线辐照3×104-5×105Gy,所述含镍离子的水溶液中含有摩尔/升的下列物质:醋酸镍0.01-0.10异丙醇1-2醋酸铵0.05-0.10氨水0.5-1.0。
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