[发明专利]γ射线辐照制备金属镍薄膜的方法无效
申请号: | 96101060.6 | 申请日: | 1996-01-30 |
公开(公告)号: | CN1049019C | 公开(公告)日: | 2000-02-02 |
发明(设计)人: | 陈祖耀;陈旻;朱玉瑞;钱逸泰 | 申请(专利权)人: | 中国科学技术大学 |
主分类号: | C23C18/14 | 分类号: | C23C18/14 |
代理公司: | 中国科学技术大学专利事务所 | 代理人: | 汪祥虬 |
地址: | 230026*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明制备金属镍薄膜的方法,是把衬底浸在含有一定浓度醋酸镍、异丙醇、醋酸铵和氨水的水溶液中,置于γ射线源中辐照3×104-5×105Gy,能获得膜厚可控的镜面状金属镍薄膜,该方法可在常温常压下操作,工艺简单易行,无论是导电或不导电的衬底,均可一步完成金属镍薄膜的生长。 | ||
搜索关键词: | 射线 辐照 制备 金属 薄膜 方法 | ||
【主权项】:
1.一种金属镍薄膜的制备方法,其特征在于将衬底置于含有镍离子的水溶液中,以γ射线辐照3×104-5×105Gy,所述含镍离子的水溶液中含有摩尔/升的下列物质:醋酸镍0.01-0.10异丙醇1-2醋酸铵0.05-0.10氨水0.5-1.0。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
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