[发明专利]圆柱形磁控管的屏蔽结构无效
申请号: | 96101901.8 | 申请日: | 1996-01-23 |
公开(公告)号: | CN1134469A | 公开(公告)日: | 1996-10-30 |
发明(设计)人: | P·A·西克;J·G·里策尔;N·E·艾伦 | 申请(专利权)人: | 美国BOC氧气集团有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 董江雄,王忠忠 |
地址: | 美国新*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供了圆柱形磁控管屏蔽结构,该结构具有围着其外表面延伸的环形结构,确定环形结构的尺寸,以便中断可能另外穿过其外表面的任何电弧的运动。在一个最佳形式中,屏蔽结构与地电位、真空腔电位或另外的阳极电位电隔离。最好环形结构的宽度大于电弧的宽度。另外,环形结构的宽度最好小于真空腔中气体的平均自由路径的一半,环形结构还相对于外表面径向延伸,其径向延伸大于环形结构的宽度。 | ||
搜索关键词: | 圆柱形 磁控管 屏蔽 结构 | ||
【主权项】:
1.在装置(10)中,在真空腔内的气体气氛中通过从圆柱形靶(14)溅射材料将膜淀积到衬底(22)上,靶(14)通过各个支撑块(16,18)在其相对端(42,44)可旋转地被支撑,所述靶包括非旋转地固定在其中的磁铁,以便建立沿靶的长度方向延伸的溅射区,所述装置包括与所述靶电连接的电源(36),并且所述装置包括至少一个圆柱形屏蔽结构(38和/或40),该屏蔽结构由所述支撑块中的至少一个支撑,并且在靶的至少一个相关的端部上延伸,相距一定间隔(50),其中所述屏蔽结构的改进之处在于包括围着其外表面(62)延伸的至少一个环形结构(52),确定所述至少一个环形结构的尺寸,以便中断可能另外穿过所述外表面的任何电弧(56)的运动。
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