[发明专利]薄膜电容及其制造方法和混合电路基板及其装配方法无效
申请号: | 96101979.4 | 申请日: | 1996-03-14 |
公开(公告)号: | CN1095176C | 公开(公告)日: | 2002-11-27 |
发明(设计)人: | 川井若浩 | 申请(专利权)人: | 欧姆龙株式会社 |
主分类号: | H01G4/33 | 分类号: | H01G4/33;H05K1/18;H05K1/16;H05K3/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 范本国 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的薄膜电容旨在实现高静电电容值,小型且薄型化。其构成是在对向设置的电极层1,2之间形成电介质层3,并在各电极层与电介质层之间夹有导电性粒子层4和5。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 电容 及其 制造 方法 混合 路基 装配 | ||
【主权项】:
1.一种薄膜电容,其特征是:在对向电极层之间形成电介质层,且至少在一侧的电极层与电介层之间夹有导电性粒子层。
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