[发明专利]采用近距离辐射加热制备双面超导薄膜的方法

摘要

本发明涉及薄膜制备技术领域，特别涉及双面超导薄膜材料制备技术。本发明的目的是为了提高热利用效率，降低加热器的功率要求，避免淀积双面膜时损坏薄膜，提供一种在真空淀积设备中使用的热辐射加热器的加热面与基片之间距离缩短至0．1—10mm之间的措施配合相应的淀积双面超导薄膜工艺的制备方法。此方法的优点是结构简单，温度均匀性高，既适用于激光法制膜，又适用于溅射法制膜。并且能提高双面超导薄膜的质量。$＃!

主权项

1．一种在真空淀积薄膜设备中，先把真空室内抽真空至0.1Pa-10-5Pa，边抽真空边动态充氧或氧气与氩气混合气体，并保持真空度在1-100Pa之间，然后缓慢升高加热器电流辐射加热基片，当基片温度达到750至780℃时保温10至15分钟，开始淀积薄膜至所需厚度后，降温到退火温度400至500℃时保温10至15分钟后，再降至室温，在降温的同时升高气压至大气压，第一面镀膜完成后翻转基片重复上述镀膜过程淀积制备第二面薄膜的采用近距离辐射加热制备双面超导薄膜方法，其特征在于：还包括在真空室内安装一个平面辐射加热器，并将基片放在真空室内的位置与平面加热器的热辐射面之间距离在0.1-10mm之间。