[发明专利]阻尼结构体及阻尼覆膜形成方法无效
| 申请号： | 96105476.X | 申请日： | 1996-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN1099558C | 公开（公告）日： | 2003-01-22 |
| 发明（设计）人： | 观音立三;林俊一;川合秀直 | 申请（专利权）人： | 三菱重工业株式会社 |
| 主分类号： | F24F13/24 | 分类号： | F24F13/24 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 陈健 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种阻尼结构体及阻尼覆膜形成方法，将混合有光聚合开始材料的减振性高分子材料的熔液涂敷到被减振结构物的表面上后，用光照射该被减振结构物，在其表面上形成阻尼覆膜，制得阻尼结构体，从而可将传递到管道和板形部件等各种被减振结构物的振动和音响很好地吸收掉。由于上述阻尼覆膜可通过光照射而迅速硬化，因此可大幅度提高生产率，还由于可通过调整高分子材料的融化温度来调整阻尼覆膜的膜厚，所以可获得与振动和音响状况相符的吸振吸音效果。 | ||
| 搜索关键词： | 阻尼 结构 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种管道组件的振动阻尼结构体的形成方法，该管道组件具有形成环状的毛细管和连接该毛细管两端的制冷剂管道，将混合有用光照射产生硬化反应的光聚合开始材料的具有光聚合作用的聚氨基甲酸乙酯树脂，涂敷在上述毛细管的环状部分表面，并用辐射光照射该环状部分，从而在上述阻尼结构体的表面形成感光成形的阻尼覆膜。
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