[发明专利]在基底上淀积薄膜的装置无效

专利信息
申请号: 96105547.2 申请日: 1996-04-11
公开(公告)号: CN1068639C 公开(公告)日: 2001-07-18
发明(设计)人: M·舒马赫;E·温特;A·索尔;D·马夸特 申请(专利权)人: 鲍尔泽斯和利博尔德德国控股公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 蔡民军
地址: 联邦德*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种使用阴极溅射法在真空室(1)内在基底(10)上淀积薄膜的装置,待加工的基底可穿过真空室移动,该装置包括一个溅射阴极(12)和阳极(4,5)之间的挡板(8,9),其中基底平面布置在阳极的下面,阳极是具有L形横截面的型材导轨,其短边(4a,5a)分别靠在内有温控介质和过程气体流过的空心型材(6,7)上,并位于空心型材的上面,并在该位置上用销钉、螺钉或卡块固定;这些固定件自空心型材的上表面向上延伸,并与阳极短边上的孔相配合。
搜索关键词: 基底 上淀积 薄膜 装置
【主权项】:
1.使用阴极溅射法在真空室(1)内在基底(10)上淀积薄膜的装置,待淀积的基底(10)可穿过真空室移动,该装置包括一个位于溅射阴极(12)和阳极(4,5)之间的挡板(8,9),其中基底平面(11)布置在阳极(4,5)的下面,该装置还包括固定在真空室(1)的侧壁上并含有通道(6a、6b、6d、6f或7a、7b、7f、7d)的空心型材(6、7),该空心型材与阴极平面平行并且处于阴极(12)和阳极(4、5)之间的区域,空心型材内有冷却介质和工作气体流过,空心型材(6、7)上设有垂直于通道布置的多个孔(6e、6e′;7e、7e′),工作气体可通过该孔排入真空室(1),其特征是,阳极(4、5)是具有L形横截面的型材导轨,其短边(4a、5a)分别靠在空心型材(6、7)上,并位于空心型材(6、7)的上面,并在该位置上用多个销钉(21、21′)、螺钉或定位块固定,这些固定件自空心型材(6、7)的上表面向上延伸,并与阳极短边(4a、5a)上的孔相配合。
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