[发明专利]含有增粘层的多层结构无效
| 申请号： | 96111302.2 | 申请日： | 1996-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN1076272C | 公开（公告）日： | 2001-12-19 |
| 发明（设计）人： | Ｃ·Ａ·普塔西;Ｒ·Ｌ·卢菲 | 申请（专利权）人： | 古尔德电子有限公司 |
| 主分类号： | B29C65/54 | 分类号： | B29C65/54;H05K1/05;//B29K5500;B29L3134 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 杨九昌,田舍人 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种增粘层，当将其用在印刷电路板用多层结构中时，它能表现出高温稳定性和高剥离强度。更具体地讲，本发明涉及含有式（Ｙ－Ｒ）＃-[a]Si(X)＃-[4-a]（式中各符号的定义见说明书）第一硅烷和式（GR)＃-[b]Si(K)＃-[4-b]（式中各符号的定义见说明书）第二硅烷的多层结构用增粘层。本发明还涉及包含预浸料坯层和增粘层的多层结构；在所述预浸料坯层中，预浸料坯由可通过碳碳双键固化机理固化的树脂制成；所述增粘层包含上述第一硅烷和第二硅烷。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 增粘层 多层 结构 | ||
【主权项】：
1.一种包含预浸料坯层和增粘层的多层结构，其中所述预浸料坯层由双马来酰亚胺化合物和双酚A化合物反应制得的聚酰亚胺树脂制成；所述增粘层含有下式硅烷：(Y－R)aSi(X)4－a式中a是1或2，X是可水解基团，R是烃基，和Y是杂环官能基，但条件是：X和Y不是含环氧的基团。
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