[发明专利]阴极溅射靶以及这类靶的制造方法

摘要

本发明公开了基于密度为理论密度的至少９５％且有不足化学计量氧含量的热压或均衡热压氧化铟／氧化锡粉末的阴极雾化靶。为了按此制成具有高强度和高溅射速度的靶，本发明提出使该靶具有晶体相，其重量组成的至少９０％，优选至少９７％为氧化铟和氧化锡的混合晶体相，并且具有２—２０微米的平均粒径。为了获得用氧化铟／氧化锡制造靶的简化且低廉的方法，可准确调节氧含量并在整个靶体积内达到均匀化学组成，其中建议用通过细粒铟－锡金属氧化而制成的初始粉末。

主权项

1．一种阴极溅射靶，该靶基于密度至少为理论密度的95％并且氧含量不足化学计量的热压或均衡热压的氧化铟/氧化锡粉末，其特征在于该靶具有晶体相，该晶体相重量组成的至少90％呈现为氧化铟和氧化锡混合晶体形式，并且平均粒径为2-20微米。