[发明专利]采用多弧离子镀制备合金涂层的方法

摘要

本发明公开了一种采用多弧离子镀制备合金涂层的方法，包括确定合金涂层、工件和合金靶成分，制造合金靶，将工件置于镀膜室内，对镀膜室抽真空，镀膜时选择工件负偏压，必要时可对合金涂层成分含量进行微调。其要点是确定合金靶成分是用公式ａi(0)=(ai/αi)÷［∑(ａi/αi)］来算出合金靶各元素成分含量，再依此制造合金靶；通过调整工件负偏压可对性能敏感元素含量进行微调。本发明具有成分含量偏差小、成本低、制造简单等特点。

主权项

1.一种采用多弧离子镀制备合金涂层的方法，包括：(1).合金涂层的确定；(2).工件的确定并作镀前处理；(3).合金靶成分的确定，制造合金靶；(4).将工件置于镀膜室工件架上，将合金靶对称置于阴极弧源位置上，工件与合金靶表面距离应大于10厘米；(5).对镀膜室抽真空，通入适量氩气，对工件表面进行轰击清洗；(6).选择工件负偏压，选择是否通入反应气体；(7).镀膜；(8).待镀膜结束，降温后取出工件。所说的合金靶成分确定，是根据下面的公式确定合金靶的化学成分：ai(0)=ai/αiΣi=1n(ai/αi)×100%式中：i从1取到n为正整数，对合金涂层的制备，n为涂层中包含合金元素的个数，对合金反应涂层的制备，n为合金反应元素的个数；ai为第i种元素在合金涂层中所要求的百分含量，或在合金反应涂层中，该元素占合金元素总量的百分比；ai(O)为第i种元素在合金靶中的百分含量；αi为第i种元素在弧等离子体中的离化率。按上述方式计算得到的a1(O)、a2(O)、…、an(O)为合金靶各元素所占份额比例，然后按此比例进行合金配料制造合金靶。