[发明专利]表面微结构检测系统及其检测方法无效
| 申请号： | 96116263.5 | 申请日： | 1996-02-29 |
| 公开（公告）号： | CN1064128C | 公开（公告）日： | 2001-04-04 |
| 发明（设计）人： | 丁志华;王桂英;王之江;干福熹 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G01B11/30 | 分类号： | G01B11/30 |
| 代理公司： | 上海华东专利事务所 | 代理人： | 李兰英 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明是一种表面微结构检测系统及其检测方法。适用于检测光盘盘基、盘片以及各种基片表面的粗糙度状况，可以给出表面微结构的二维或三维形貌图。在由计算机、数模转换卡、高压放大器、精平移器位置平衡装置、压电陶瓷传感器、显微物镜、干涉头、照明光源、电荷耦合器（ＣＣＤ）及其它光学元件构成的检测系统中，干涉头为三片板型构置；即由反射片和支撑板构成的参考板、分光板和补偿板所构成。所采用的检测方法是多序列移相操作和反馈式移相控制技术。$＃! | ||
| 搜索关键词： | 表面 微结构 检测 系统 及其 方法 | ||
【主权项】：
1．一种表面微结构检测系统，包括控制移相操作和数据采集及处理的计算机(5)，计算机(5)发出的数字信号经数模转换卡(6)转换为模拟信号，经过高压放大器(7)放大后，通过平移器位置平衡装置(8)控制加在压电陶瓷传感器(PZT)(12)上的电压，从而驱动PZT(12)纵向伸缩，并带动干涉头(11)中置于PZT(12)上的待测样品(4)作纵向平移，干涉头(11)之上有照明光源(14)，干涉头(11)形成的干涉图经显微物镜(10)和光学元件(15)成像于电荷耦合器(9)上，电荷耦合器(9)将信号送至计算机(5)和监视器(13)中，其特征在于干涉头(11)包含由一中心位置上置有反射片(16)的支撑板(17)所构成的参考板(2)，在参考板(2)与待测样品(4)之间的分光板(3)朝向待测样品(4)的一面上设置有一补偿板(18)。
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