[发明专利]刻蚀方法无效
申请号: | 96119282.8 | 申请日: | 1996-10-17 |
公开(公告)号: | CN1072737C | 公开(公告)日: | 2001-10-10 |
发明(设计)人: | 一濑博文;泽山一平;长谷部明男;村上勉;久松雅哉;新仓谕;上野雪绘 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | C25F3/02 | 分类号: | C25F3/02;C25F3/12 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王以平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种刻蚀方法,包括将待要刻蚀的物体浸入电解液作为负电极;设置具有相应图形的相对电极,与该物体维持预定间隔;在该物体和相对电极之间施加直流或脉冲电流,从而将物体上要刻蚀的区域刻蚀成相对应的图形。$#! | ||
搜索关键词: | 刻蚀 方法 | ||
【主权项】:
1.一种刻蚀具有要刻蚀区的基片的方法,包括步骤:(a)将所说基片浸入电解液使所说基片作负电极,(b)设置具有和所说电解液中所说基片要刻蚀区域上将要形成的要求刻蚀图形相对应的图形的相对电极,使所说相对电极与所说基片维持预定的间隔,(c)在所说基片和所说相对电极之间加直流电流或脉冲电流,将所说基片上要刻蚀的区域刻蚀成和所说相对电极的所说图形相对应的图形。
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