[发明专利]清洗桶式反应器用的方法和装置

摘要

利用反应气体通过化学汽相沉积法将材料沉积在半导体晶片上用的反应器，包括限定反应室的壳体，壳体有一个开口进入反应室并从中延伸离开的喷口空腔。也包括将反应气体输入反应室的反应气体输送系统，该系统包括设在喷口空腔内的喷嘴、反应气体源和连接气源和喷嘴的管线。还包括将清洗气体输入反应室的清洗气体输送系统，该系统包括进入喷口空腔用于引入清洗气体的出口、清洗气体源和从气源向出口输气的装置。

主权项

1.一种利用反应气体通过化学汽相沉积法将材料沉积在半导体晶片上用的反应器，该反应器包括：一个限定反应室的壳体，反应室的尺寸能容纳至少一个半导体晶片，该壳体有一个开口进入上述反应室并从该反应室延伸离开的喷口空腔；一个将反应气体输送到反应室用的反应气体输送系统，该反应气体输送系统包括：a)一个安置在喷口空腔内的喷嘴，用于将反应气体引入反应室；b)一个反应气体源，用于在将反应气体通过喷嘴引入反应室之前贮存该反应气体；和c)一个延伸在反应气体源和喷嘴之间的反应气体管线，用于将反应气体输送到喷嘴；以及一个清洗气体输送系统，它包括：a)一个开口进入上述喷口空腔的清洗气体出口，用于将清洗气体引入该喷口空腔，以便从该空腔清洗去反应气体；b)一个清洗气体源，用于在引导清洗气体通过清洗气体出口进入喷口空腔之前贮存清洗气体；和c)用于将清洗气体从清洗气体源输送到清洗气出口以清洗喷口空腔的装置。