[发明专利]形成微图案的光照方法和装置无效
| 申请号： | 96123105.X | 申请日： | 1996-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN1101007C | 公开（公告）日： | 2003-02-05 |
| 发明（设计）人： | 全成镐;李圣默;赵倍斗 | 申请（专利权）人： | 现代电子产业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 张政权 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种形成微图案的光照方法装置，它能在减少反差间隙的同时，使反差获得改善，从而实现半导体器件的高集成度。其中采用偏振光作为光源，并调节偏振光的偏振角和椭圆率，由此优化反差和反差间隙另外，光照装置包含从光源发射的光偏振用的偏振片，偏振片调整决定反差的偏振角和决定反差间隙的椭圆率。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 图案 光照 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种通过光源成像于晶圆片上形成图案的光照方法，其特征在于包含以下步骤：提供偏振光作为光源；调节决定反差的偏振光的偏振角；调整决定反差间隙的偏振光的椭圆率；由此优化照射到晶圆片上的图像的反差和反差间隙。
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