[发明专利]正性光致抗蚀剂的显影方法和所用的组合物无效
| 申请号： | 96191526.9 | 申请日： | 1996-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN1072813C | 公开（公告）日： | 2001-10-10 |
| 发明（设计）人： | S·A·菲斯尔;J·迈威斯;C·F·莱昂斯;W·M·莫里尤;M·V·普拉特 | 申请（专利权）人： | 科莱恩金融(BVI)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 陈季壮 |
| 地址： | 英属维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 说明了一种用于正性光致抗蚀剂显影的方法和组合物。本发明的显影剂包括氢氧化铵类的含水碱和最优选其含量为１０至约３０ppm的氟化烷基烷氧基化物类的表面活性剂。特别优选的表面活性剂包括磺酰基和胺部分。$＃! | ||
| 搜索关键词： | 正性光致抗蚀剂 显影 方法 所用 组合 | ||
【主权项】：
1．一种正性光致抗蚀剂薄膜的基片的显影方法，该方法主要包括以下步骤：将包括含水氢氧化铵类的碱和氟化烷基烷氧基化物类的表面活性剂的含水碱类显影剂组合物涂覆到所述薄膜上，其中所述表面活性剂的含量为10至30ppm(重量)，随后将该显影剂组合物从所述薄膜上漂洗掉。
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