[发明专利]用作加压素拮抗剂的双环苯并吖庚因衍生物无效

专利信息
申请号: 96192356.3 申请日: 1996-01-16
公开(公告)号: CN1177356A 公开(公告)日: 1998-03-25
发明(设计)人: J·D·阿尔布赖特;E·G·德罗斯桑托斯 申请(专利权)人: 美国氰胺公司
主分类号: C07D495/04 分类号: C07D495/04;C07D487/04;C07D471/04;A61K31/55;C07D513/04;//;333∶00;223∶00);237∶00;223∶00);223∶00;221∶00);281∶00;221∶00)
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 马崇德,温宏艳
地址: 美国新*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及新的通式(Ⅰ)双环非肽加压素拮抗剂,该拮抗剂用于治疗需要降低加压素水平的疾病如用于充血性心力衰竭、用于过剩的肾水重吸收的疾病,和用于增加血管阻力和冠状血管收缩的疾病。
搜索关键词: 用作 加压素 拮抗剂 双环苯 衍生物
【主权项】:
1、一种选自通式I的化合物和其可成药盐:其中,E-Y选自:-CH=CH-、、-CH2-CH2-,当Y为-CH2-时,E选自:-CHOH、-CHO-低级烷基(C1-C6)、-CH-S-低级烷基(C1-C6)、-CHNH2、-CHN-低级烷基(C1-C6)、-C[N-低级烷基(C1-C6)]2、-CHOCO-低级烷基(C1-C6)、-CHNH(CH2)mNH2;-CHNH(CH2)m-NH-低级烷基(C1-C6)、-CHNH(CH2)m-N[低级烷基(C1-C6)]2;-CHNH(CH2)m-S-低级烷基(C1-C6)、-CHNH(CH2)m-O-低级烷基(C1-C6)、S、O、-NH、-N-低级烷基(C1-C6)、-NCO-低级烷基(C1-C6),m为整数2-6;代表:(1)含2个氮原子的稠合的不饱和6-元杂芳环,其可选择性地被1个或2个取代基取代,取代基选自:(C1-C3)低级烷基、卤原子、氨基、(C1-C3)低级烷氧基或(C1-C3)低级烷氨基;(2)含1个选自O、N或S的杂原子的5-元芳(不饱和)杂环;(3)含2个相邻氮原子的5-元芳(不饱和)杂环;(4)含1个氮原子及1个氧原子或硫原子的5-元芳(不饱和)杂环;其中,5或6-元杂环可选择性地被(C1-C3)低级烷基、卤原子或(C1-C3)低级烷氧基取代;R3为-COAr,其中Ar选自:其中,X选自:O、S、-NH、-NCH3和-NCOCH3;R4选自:H、低级烷基(C1-C3)、-CO-低级烷基(C1-C3)、-SO2-低级烷基(C1-C3);R1和R2选自:H、(C1-C3)低级烷基、(C1-C3)低级烷氧基和卤原子;R5选自:H、(C1-C3)低级烷基、(C1-C3)低级烷氧基和卤原子;R6选自:(a)如下式的基团:低级烷基(C3-C8)直链或支链,低级烷基(C3-C8)直链或支链,低级烷基(C3-C8)直链或支链,低级链烯基(C3-C8)直链或支链,其中环烃基定义为:(C3-C6)环烷基、环己烯基或环戊烯基;Ra独立选自H、-CH3或-C2H5、-(CH2)q-O-低级烷基(C1-C3)、-CH2CH2OH,q为1、2或3;Rb独立选自:H、-CH3或-C2H5,(b)如下式的基团:其中J为Ra,支链或直链的低级烷基(C3-C8)、支链或直链的低级链烯基(C3-C8)、支链或直链的O-低级烷基(C3-C8)、支链或直链的O-低级链烯基(C3-C8)、四氢呋喃、四氢噻吩,和基团:或-CH2-K′,其中K′为(C1-C3)低级烷氧基、卤原子、四氢呋喃、四氢噻吩或杂环基:其中D、E、F和G选自碳或氮,其中碳原子可以选择性地被卤原子、(C1-C3)低级烷基、羟基、-CO(C1-C3)低级烷基、CHO、(C1-C3)低级烷氧基、CO2-(C1-C3)低级烷基取代,Ra和Rb定义如前;(c)如下式的基团:其中Rc选自卤素,(C1-C3)低级烷基,O-低级烷基(C1-C3),OH,其中Ra和Rb定义如前;(d)如下式的基团:-M-Rd其中Rd为低级烷基(C3-C8)、低级链烯基(C3-C8)或-(CH2)p-环烷基(C3-C6),其中M为O、S,NH、NCH3,及基团-M-Rd,其中Rd选自基团:其中p为0-4,M为键或M选自O、S、NH、NCH3;其中R1、R2和Ra定义如前;其中Ar′选自:其中,W′选自:O、S、NH、N-低级烷基(C1-C3)NHCO-低级烷基(C1-C3)、NSO2低级烷基(C1-C3);R7选自:H、低级烷基(C1-C3)、卤原子、O-低级烷基(C1-C3)和CF3;R8和R9分别选自:H、低级烷基(C1-C3)、S-低级烷基(C1-C3)、卤原子、-NH-低级烷基(C1-C3)、-N-[低级烷基(C1-C3)]2、-OCF3、-OH、-CN、-S-CF3、-NO2、-NH2、O-低级烷基(C1-C3)、NHCO低级烷基(C1-C3)、-O-CO-低级烷基(C1-C3)、-N(Rb)(CH2)q-N(Rb)2和CH3;R10选自:H、卤原子和低级烷基(C1-C3)。
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