[发明专利]为光刻产生的石英晶体坯片单一分割的刻蚀法无效
| 申请号： | 96194282.7 | 申请日： | 1996-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN1096626C | 公开（公告）日： | 2002-12-18 |
| 发明（设计）人： | 凯文L·哈斯;罗伯特S·威特;查尔斯L·齐姆尼奇;艾亚德·阿尔海克 | 申请（专利权）人： | CTS公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 美国印*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于单一分割的刻蚀(200)光刻产生的石英晶体坯片的方法。第一步，在石英片的二侧涂覆金属以及随后在二侧涂覆光致抗蚀剂(202)。第二步，对光致抗蚀剂图形化和显影并刻蚀金属层以界定带有窄石英沟道(暴露于待要单一分割的坯片与石英母片204之间)的一个石英坯片的周边。第三步，沿着平行的原子平面被择优刻蚀的石英沟道局部进入片子以便在石英片与待要单一分割的坯片之间提供一个机械上弱的结合，与此同时围绕石英坯片剩余处的周边被刻蚀完全穿通石英母片(206)。第四步，光致抗蚀剂层被从石英片(208)剥离。最后，石英坯片严格沿石英沟道的底部被解理并从片子(210)单一分割成晶体坯片。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 产生 石英 晶体 单一 分割 刻蚀 | ||
【主权项】：
1.一种为单一分割而刻蚀光刻产生的石英晶体坯片的方法，它包括：提供分别涂覆一个光致抗蚀剂层和至少一个金属层的石英片；从光致抗蚀剂和金属层清除预定图形以暴露带有一个底部并连接于界定石英坯片的剩余石英周边的一个石英沟道；基本上沿着平行的石英原子平面刻蚀沟道的底部，从而使沟道底部不刻蚀穿通石英片；从金属层剥离遗留的光致抗蚀剂层；以及基本上沿沟道底部和基本上与石英晶体原子平面对准进行解理，从石英片单一分割石英坯片。
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