[发明专利]用于半导体加工的超高纯化学品的现场混合系统及方法无效
| 申请号： | 96194564.8 | 申请日： | 1996-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN1204408A | 公开（公告）日： | 1999-01-06 |
| 发明（设计）人： | J·G·霍夫曼;R·S·克拉克;A·H·小琼斯 | 申请（专利权）人： | 斯塔泰克文切斯公司 |
| 主分类号： | G05D11/13 | 分类号： | G05D11/13 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 孙爱 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提出用于半导体加工中的超纯流体如液体酸混合和/或稀释的系统及方法。所述系统包括第一和第二化学品分配器,用以盛装待混合的第一流体和第二流体;第一和第二化学品分配器间的过程通路,由此使所述第一流体和第二流体流过并相混生成一种混合流体,由此还使混合流体流向用户使用处;超声波发射装置(28),该装置(28)所处位置足以发出穿透混合流体的超声波,该装置(28)包括测量通过所述混合流体波速的装置并因此间接测出混合流体中第一流体和第二流体的混合量之比。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 半导体 加工 超高 化学品 现场 混合 系统 方法 | ||
【主权项】：
1．一种在半导体生产设备上实现超纯液体化学品现场精确混配的方法，该法包括如下步骤：(a)自第一、第二和第三物源有控制地供应第一、第二和第三种超纯试剂组分；(b)使第一与第二种超纯试剂组分相混，从而以精确选定的第1种配比，并在与一维测量传感器输出有关的控制关系下，形成第一种超纯混合物；(c)使第三种超纯试剂组分与第一种超纯混合物相混，从而以精确选定的第2种配比，并在与一维测量传感器输出有关的控制关系下，形成第二种超纯混合物；及(d)经输送所述水溶液的管路向半导体元件制造设备的用户端口供应第二种超纯混合物。
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