[发明专利]为半导体制造提供超高纯氨的体系和方法无效
| 申请号： | 96195404.3 | 申请日： | 1996-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN1086319C | 公开（公告）日： | 2002-06-19 |
| 发明（设计）人： | J·G·霍夫曼;R·S·克拉克 | 申请（专利权）人： | 斯塔泰克文切斯公司 |
| 主分类号： | B08B7/04 | 分类号： | B08B7/04;B01D1/00;B01D3/00;B01D3/02;B01D3/14;B01D3/34;C01B7/07;C01B7/19;F26B7/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 吴亦华 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 用于半导体制造的高纯度氨用以下步骤来现场制备从液氨储蓄器中抽出氨蒸气；使所述的蒸气通过能过滤出粒度小于0.005微米的颗粒的过滤器；以及将经过滤的蒸气在高pH值含水涤气器中洗涤。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 制造 提供 高纯 体系 方法 | ||
【主权项】：
1.一种在半导体设备制造工厂中为半导体制造操作提供含氨的超高纯试剂的现场辅助体系，该体系包括：一个连接到液氨源并由它提供氨蒸气流的汽化源；所述的氨蒸气流被连接以通过离子纯化装置，它使含有高浓度氢氧化铵的高纯水循环流与所述的氨蒸气流接触；以及一个连接的制备装置，它接收来自所述的纯化装置的所述氨蒸气流，并使所述的氨蒸气与含水液体合并，制得含有氨的超纯含水溶液；以及一个管系，它将所述的含水溶液送到半导体设备制造工厂的各使用点。
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