[发明专利]光谱测量用的光学滤光片及其制造方法无效

专利信息
申请号: 96196114.7 申请日: 1996-06-04
公开(公告)号: CN1192808A 公开(公告)日: 1998-09-09
发明(设计)人: 小J·M·O·勒佩尔;M·K·迪尔布 申请(专利权)人: 马西默有限公司
主分类号: G02B5/28 分类号: G02B5/28;G01J3/12
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 王勇,傅康
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种被用在包括光谱测量之类应用中的光学滤光片(120),是通过将一些光学涂敷层(111)涂覆在基片(110)上制成的。涂敷层(111)被涂覆,以便在沿基片(110)表面的第一方向上具有基本上不变的厚度,而且沿与第一方向垂直的方向具有逐渐增加的厚度。光学滤光片(120)的这种结构允许大规模生产该滤光片,以致于其生产成本可以大大降低。该滤光片(120)可以用在各种应用中,其中包括但不局限于化学分析、血糖检测,以及诸如此类。
搜索关键词: 光谱 测量 光学 滤光 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种制造旋转光学滤光片的方法,所述制造方法包括如下步骤:提供一具有上表面和下表面的光学基片,以及在所述上表面上涂覆以光学涂敷层,从而使上述涂敷层跨过上述基片的上述顶面沿第一方向具有变化的厚度,并使这些涂敷层的厚度在与上述第一方向基本垂直的第二方向上基本上不变。
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