[发明专利]苯甲酰胺衍生物和它们作为后叶加压素拮抗剂的应用无效

专利信息
申请号: 96196175.9 申请日: 1996-06-06
公开(公告)号: CN1192729A 公开(公告)日: 1998-09-09
发明(设计)人: 濑户井宏行;大川武彦;善光龙哉;泽田仁;佐藤健太郎;田中洋和 申请(专利权)人: 藤泽药品工业株式会社
主分类号: C07C237/42 分类号: C07C237/42;C07C237/44;A61K31/165;A61K31/33;C07D295/18;C07D295/20;C07D211/58;C07D211/46;C07D213/80;C07D209/48;C07C271/16
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 刘元金,罗才希
地址: 日本大阪*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及具有后叶加压素拮抗活性等的、用通式(Ⅰ)表示的新的苯甲酰胺衍生物及其药学上可接受的盐,通式中的R1是由低级烷氧基选择取代的芳基等;R2是低级烷基等;R3是氢等;R4是低级烷氧基等;R5是氢等;A是NH等;E是-C(O)-等X是-CH=CH-、-CH=N-或S;和Y是CH或N;本发明还涉及该化合物的制备方法以及含有它们的药物组合物。
搜索关键词: 甲酰胺 衍生物 它们 作为 加压素 拮抗剂 应用
【主权项】:
1.下式化合物和其药学上可接受的盐:其中R1是芳基、环(低级)烷基或杂环基,它们各自被选自下述的取代基所取代:卤素;羟基;硝基;氨基;酰基;取代的酰基;酰基(低级)烷基亚磺酰基;酰基(低级)烷基磺酰基;酰氧基;低级烷基氨基(低级)烷基氨基甲酰氧基;芳基;氰基;杂环基;被酰基、取代的酰基、芳基或酰基取代的芳基选择取代的低级链烯基;被氨基、酰基氨基或取代的酰基氨基选择取代的低级链炔基;被选自下述的基团选择取代的低级烷基:卤素、氨基、低级烷氨基、酰基氨基、取代的酰基氨基、羟基、酰氧基、酰基(低级)链烷酰氧基、酰基、取代的酰基、酰基(低级)烷氧基亚氨基、芳基或酰基取代的芳基;被酰基或取代的酰基选择取代的低级烷硫基;被选自下述的基团选择取代的烷氧基:芳基、取代的芳基、羟基、酰氧基、氨基、低级烷氨基、保护的氨基、杂环基、酰基取代的吡啶基、取代的酰基取代的吡啶基、卤素、酰基(低级)烷氨基、N-保护的酰基(低级)烷氨基、N-酰基(低级)烷基-N-(低级)烷氨基、酰基、取代的酰基、酰氨基、取代的酰氨基、低级烷基肼基羰基氨基、羟基亚氨基、酰基(低级)烷氧基亚氨基、取代的酰基(低级)烷氧基亚氨基、酰基(低级)烷氧基、胍基或N-保护的胍基;和被酰基或取代的酰基选择取代的低级链烯氧基;R2是氢;被羟基、芳基或酰基选择取代的低级烷基;或环(低级)烷基;R3是氢;卤素;羟基;酰氧基;取代的酰氧基;被羟基或低级烷氧基选择取代的低级烷基;被芳基、氨基、保护的氨基、酰基、羟基、氰基或低级烷硫基选择取代的低级烷氧基;硝基;氨基;酰基;取代的酰基;或环(低级)烷氧基;R4是羟基;卤素;硝基;氨基;保护的氨基;低级烷氨基;酰氧基;氨基(低级)烷氨基;N-保护的氨基(低级)烷氨基;被选自下述的基团选择取代的低级烷氧基:羟基、芳基、取代的芳基、酰基、取代的酰基、氨基、低级烷氨基、酰氨基、取代的酰氨基、保护的氨基、杂环基或胍基;被选自下述的基团选择取代的低级烷硫基:酰基、取代的酰基、氨基、低级烷氨基、酰氨基、取代的酰氨基、保护的氨基、杂环基、羟基、低级烷基磺酰氧基、芳基磺酰氧基、芳基(低级)烷氧基或取代的芳基(低级)烷氧基;被选自下述的基团取代的低级烷基:酰基、取代的酰基、氨基、低级烷氨基、酰氨基、取代的酰氨基、保护的氨基、杂环基、羟基、低级烷基磺酰氧基或芳基磺酰氧基;被酰基选择取代的低级链烯基;被羟基、氨基、保护的氨基、低级烷基磺酰氧基或芳基磺酰氧基选择取代的低级链炔基;氨基(低级)烷基磺酰基;N-保护的氨基(低级)烷基磺酰基;低级烷氨基磺酰基;杂环基磺酰基;氨基(低级)烷基亚磺酰基;N-保护的氨基(低级)烷基亚磺酰基;哌啶氧基;或N-保护的哌啶氧基;R5是氢,低级烷基,低级烷氧基或卤素;A是单键,O或NH;E是低级亚烷基,低级亚链烯基,-C(O)-,-S(O)2-,或式-G-J-基团,其中G是低级亚烷基和J是O或-N(R6)-(其中R6是氢或N-保护的基团);X是-CH=CH-,-CH=N-或S;和Y是CH或N。
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