[实用新型]透明导电膜平面磁控溅射靶板无效
| 申请号： | 96220998.8 | 申请日： | 1996-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN2280717Y | 公开（公告）日： | 1998-05-06 |
| 发明（设计）人： | 庄孝忠;李春先;何巍;叶云;郭冰;李毅;周卫华 | 申请（专利权）人： | 深圳市创益科技发展有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 深圳市专利服务中心 | 代理人： | 张艺影 |
| 地址： | 518029 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种透明导电膜平面磁控溅射靶板,特别适合用于溅射镀覆氧化铟锡透明导电薄膜。由ITO陶瓷块通过连接层2与金属背板3连接,形成ITO陶瓷层1,在ITO陶瓷层1的接合面缝隙处有一绝缘耐高温层7;连接层2是由过渡层4、保护层5及焊接层6所组成,且过渡层4由绝缘耐高温层7和铟锡合金层8所组成并位于ITO陶瓷层1接合面上。本实用新型所产生的积极效果显著,获得了性能可靠使用寿命长地用于ITO导电膜生产的溅射靶板。 | ||
| 搜索关键词： | 透明 导电 平面 磁控溅射 | ||
【主权项】：
1.一种透明导电膜平面磁控溅射靶板，由陶瓷层、连接层及金属背板所组成，其特征是：所述陶瓷层是由ITO陶瓷块通过连接层(2)与金属背板(3)连接，且形成ITO陶瓷层(1)，在ITO陶瓷层(1)的接合面缝隙处有一绝缘耐高温层(7)：所述连接层(2)是由过渡层(4)、保护层(5)及焊接层(6)组成.且由绝缘耐高温层(7)和铟锡合金层(8)构成ITO陶瓷层(1)接合面上的过渡层(4)。
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