[发明专利]集成电路的布图的制作方法无效
| 申请号： | 97100395.5 | 申请日： | 1997-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN1059278C | 公开（公告）日： | 2000-12-06 |
| 发明（设计）人： | 吕炳尧 | 申请（专利权）人： | 联华电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 徐娴 |
| 地址： | 中国*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种集成电路的布图的制作方法。其将Ｘ及Ｙ方向对准记号及游标尺图形放置在有效曝光区的边缘，仅使用非常小的面积，此方法可运用在一般集成电路产品的第零层光掩模的对准之用，并记录下对准记号的坐标位置，以光掩模的几何中心点为原点。接着，在制作一般产品的布图时，先将对准记号和检视用的辅助游标尺图形放置在电路场区边缘的切割线上，再将电路场区左右移动，使得产品对准记号先前光掩模记号的坐标均相同。 | ||
| 搜索关键词： | 集成电路 制作方法 | ||
【主权项】：
1、一种集成电路的布图的制作方法，其特征在于，包括下列步骤：(a)在透明衬底上形成含有不透明区域的集成电路布图以及对准记号的光掩模；(b)在所述光掩模的有效曝光区域内，放置一组X及Y方向对准记号及游标尺图形在电路布图区域一定距离外的上下左右四个角落中的任何一个角落。
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