[发明专利]光学玻璃平面超精密研抛方法及设备

摘要

本发明公开一种光学玻璃平面超精密研抛方法及其设备,即精密研抛机采用纯锡研磨盘,方法的关键在于,被加工件用胶带粘贴于夹具上,研磨盘为纯锡制成,表面与试件加工作业面为凸起环形带状,环带宽度为试件直径的80～95%,研磨液为粒度直径在70A以上的SiO2与纯净水悬浮液,本发明所述方法,可使Φ100mm光学玻璃经3小时研磨达到λ/20平面精度。

主权项

1、一种光学玻璃平面超精密研抛方法，是由以下步骤组成：(1)、在精密研抛机上由纯度为99.9％金属锡制作成圆环形研磨盘，研磨盘圆环宽度大于被加工试件直径，固定试件的夹具通过万向联轴节与转轴连接；(2).用双面胶带将试件粘贴于夹具上；(3).使用安装在研磨机上的切削装置，车削平研磨盘，再按被加工试件直径的80～95％为宽度将研磨盘切削为凸起圆环，形成研磨盘的作业面；(4).注研磨液，以淹没研磨盘表面为限。研磨液是一种公称直径为70A的SiO2超级微粉末与纯净水的悬浮液。(5).研磨盘和试件以其各自的轴为中心转动，试件只进行回转而无一般光学平面研磨中的摇摆运动，调整研磨盘转速在60rpm以上。(6).连续研磨试件，直到试件平面度达到标称精度为止。