[发明专利]净化含杂质液体的装置无效
| 申请号： | 97104543.7 | 申请日： | 1997-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN1164455A | 公开（公告）日： | 1997-11-12 |
| 发明（设计）人： | 三轮弘行;山本修三;佐藤严一 | 申请（专利权）人： | 丰田自动车株式会社;佐藤严一 |
| 主分类号： | B23Q11/00 | 分类号： | B23Q11/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 陈申贤 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种液体净化装置包括一个竖直的壳体，多个安置在壳体内的斜板形成曲折的通路，开在斜板上的第一通路使轻于液体的杂质通过此通路上浮，而开在斜板上的第二通路使重于液体的杂质通过此通路下沉，该装置还包括各自开在壳体上的一个供液孔，一个净化液体出口孔，一个第一排放孔，通过该孔排出比液体重的杂质；一个第二排放孔，通过该孔排出比液体轻的杂质。 | ||
| 搜索关键词： | 净化 杂质 液体 装置 | ||
【主权项】：
1.一种净化含杂质液体的装置有：一个竖直中空的壳体，它有一个底壁、一个顶壁和至少一个大体上垂直侧壁。多个相互隔开并与水平呈倾斜的斜板安置在上述壳体内，上述多个斜板包括至少一个从上述侧壁下倾延伸的第一板和至少一个向上述侧壁上斜延伸的第二板，上述至少一个第一板的各板有一个上端，该上端限定出使比液体轻的杂质通过其而上浮的第一通路，上述至少一个第二板的各板有一个下端，该下端限定出使比液体重的杂质通过其而下沉的第二通路；一个液体供应装置用于把上述含杂质的液体送入上述壳体内，上述液体供应装置包括一个开在上述壳体上的供液孔；一个净化液体出口孔开在上述第二通路上方处的上述壳体顶壁上；一个第一排放孔开在上述第二通路下方处的上述壳体的底壁上；和一个第二排放孔开在第一通路上方处的上述壳体的顶壁上。
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