[发明专利]场造型工艺及设备无效
| 申请号： | 97106524.1 | 申请日： | 1997-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN1174112A | 公开（公告）日： | 1998-02-25 |
| 发明（设计）人： | 高波 | 申请（专利权）人： | 高波 |
| 主分类号： | B26F1/26 | 分类号： | B26F1/26 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200030 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本申请案属于形体组合造型工艺。本申请人的中国专利88105593.X中提出了一种用形体材料微元体组合成型体的方法。由于该需要用机械方式制备巨量的微元体,机构较为复杂,精度较低。本工艺及设备改为利用场对薄层的场力(f或Φ),切割图形状的薄层,再将薄层组合成型体的方法。场力可高精度地快速切割图形薄层,使本工艺的适用性高,设备简单。 | ||
| 搜索关键词： | 造型 工艺 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用形(型)体材料微元体组合造型的形体造型方法，其特征在于先将形体材料制(或分布)成型体材料薄层，利用图形场的场力从形体材料薄层中切割(或吸附、或分离)出一片片(层层)各种有所需要的几何图形状的型体材料薄层，将一片片(层层)各种有所需要几何图形状的型体材料薄层组合成一个所需要的形体。
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