[发明专利]瞄准筒反应器喷嘴的方法和装置无效
| 申请号： | 97111527.3 | 申请日： | 1997-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN1170784A | 公开（公告）日： | 1998-01-21 |
| 发明（设计）人： | 唐纳德·芬恩;兰斯·G·黑尔维希 | 申请（专利权）人： | MEMC电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/14 | 分类号： | C30B25/14 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 马江立 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 将反应气体从供应源发放到筒反应器的反应室以便进行化学汽相淀积的射流组合件,具有一个装在筒反应器上的喷嘴和一个与喷嘴连接的定位装置,后者可用来使喷嘴相对于筒反应器绕枢轴旋转,从而改变气体射流进入反应室的方向,定位装置的构造成使喷嘴相对于筒反应器的位置能够定量地测出,从而能够重现地瞄准喷嘴,以便选择反应气体射流进入反应室的方向。 | ||
| 搜索关键词： | 瞄准 反应器 喷嘴 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用来发放反应气体的射流组合件，使气体从供应源发放到筒反应器的反应室内，以便在化学汽相淀积的过程中用来将材料淀积在反应室内放置的半导体晶片上，该射流组合件包括：一个喷嘴，该喷嘴适宜安装在一个与反应气体供应源有管路连通的筒反应器上，以便有选择地从供应源将反应气体的射流发放到反应室，从而完成在反应室内的化学汽相淀积过程，该喷嘴可相对于筒反应器绕枢轴旋转，以便有选择地改变反应气体射流进入反应室的方向；和一个定位装置，该装置被连接到喷嘴上以便用来使喷嘴相对于筒反应器绕枢轴旋转，从而改变气体射流进入反应室的方向，定位装置构造成使喷嘴相对于筒反应器的位置能够定量地测出，从而能够重现地瞄准喷嘴，以便选择反应气体射流进入反应室的方向。
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