[发明专利]光电元件的制造方法无效

专利信息
申请号: 97113711.0 申请日: 1997-05-16
公开(公告)号: CN1093985C 公开(公告)日: 2002-11-06
发明(设计)人: 一诺濑博之;长谷部明男;村上勉;新仓谕;上野雪绘 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: H01L31/0392 分类号: H01L31/0392
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 范本国
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种制造光电元件的方法,所述方法包括步骤提供光电元件,该光电元件包括下电极层,下电极层包括由Al或铝化合物构成的金属层和透明导电层;光电转换半导体层;和透明电极层,它们以所述次序层叠在基片的导电表面上;把所述光电元件浸入在电解溶液中,以通过电场作用钝化在所述光电元件中存在的短路电流通路缺陷,其中所述电解溶液具有0.03mol/l或更少的氯离子含量。
搜索关键词: 光电 元件 制造 方法
【主权项】:
1、一种制造光电元件的方法,所述方法包括步骤:提供光电元件,该光电元件包括:(a)下电极层,该下电极层包括:(a-i)铝或铝化合物构成的金属层,和(a-ii)透明导电层;(b)光电转换半导体层;及(c)透明电极层,它们以所列次序层叠在基片上,以及把所述光电元件浸入在电解溶液中,以通过电场作用钝化在所述光电元件中存在的短路电流通路缺陷,其中所述电解溶液具有0.03mol/l或更少的氯离子含量。
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