[发明专利]带有集成的反应气体源的等离子体寻址液晶显示装置无效
| 申请号： | 97114900.3 | 申请日： | 1997-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN1177118A | 公开（公告）日： | 1998-03-25 |
| 发明（设计）人： | K·J·伊尔茨西恩;T·S·布扎克;P·C·马丁 | 申请（专利权）人： | 特克特朗尼克公司 |
| 主分类号： | G02F1/133 | 分类号： | G02F1/133 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张志醒,王忠忠 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 等离子体寻址液晶显示板,包括通道基板;密封通道基板并在通道基板中的通道上延伸的盖板;由通道基板和盖板限定的密封体积中的氦气,其局部压力在约50mB至约350mB范围内;和双向地吸收和释放氢气的储存材料体,使氢在密封体积中的氢气的局部压力在约0.02mB至约36mB范围内。 | ||
| 搜索关键词： | 带有 集成 反应 气体 等离子体 寻址 液晶 显示装置 | ||
【主权项】：
1、等离子体寻址液晶显示装置，包括：确定互连通道阵列的通道基板，在通道上延伸并密封通道基板的盖板，从而由通道基板和盖板构成密封体积，所述密封体积中的可电离气体，每个通道中的一对电极用于有选择地电离各自通道中的气体，和与密封体积连通的掺杂气体源，所述源包括双向地吸收和释放所述掺杂气体的储存材料体，从而在材料体中掺杂气体的浓度和所述密封体积中掺杂气体局部压力之间建立平衡状态。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于特克特朗尼克公司，未经特克特朗尼克公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/97114900.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：位置读取装置
- 下一篇：可变形反射镜装置及其制造方法
