[发明专利]一种钕钡铜氧超导单晶体的制备方法无效
申请号: | 97121888.9 | 申请日: | 1997-12-11 |
公开(公告)号: | CN1064723C | 公开(公告)日: | 2001-04-18 |
发明(设计)人: | 周廉;杨万民;冯勇;张翠萍;张平祥;吴晓祖 | 申请(专利权)人: | 西北有色金属研究院 |
主分类号: | C30B29/22 | 分类号: | C30B29/22;C30B1/00 |
代理公司: | 中国有色金属工业总公司专利事务所 | 代理人: | 李迎春,王连发 |
地址: | 710016*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 一种钕钡铜氧超导单晶体的制备方法,特别是适用于生长钕钡铜氧单晶体籽晶的制造。其特征在于配料原料中含钕、钡、铜的比例(克原子比)为Nd∶Ba∶Cu=1∶(2+x)∶3,其中x=0.2~0.8;晶体生长过程是将压块后的混合料块加热在富钡条件下,进行晶体的熔化生长。本发明采用富钡原料配比,直接钭配制好料块进行熔融生长热处理,不需要坩埚和其它的籽晶及机械系统,在普通的烧结炉中即可完成晶体生长过程,操作简单,经济可靠。$#! | ||
搜索关键词: | 一种 钕钡铜氧 超导 单晶体 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种钕钡铜氧超导单晶体的制备方法,包括将Nd2O3、BaCO3、CuO原料粉末混合、煅烧、研磨配制粉料,混合粉料压块,晶体生长,晶体分离过程,其特征在于:a.制备混合粉末时配料原料中含钕、钡、铜的比例(克原子比)为Nd∶Ba∶Cu=1∶(2+x)∶3,其中x=0.2~0.8;b.晶体生长过程是将压块后的混合料块加热在富钡条件下,进行晶体的熔融生长,工艺过程及条件为:将混合料块加热至940℃,恒温烧结10~24小时;再升温到1150℃~1200℃,保温0.5~3小时;然后将温度降至1070℃~1090℃,其降温速率为50℃~180℃/小时;再将温度降至980℃~1040℃,其降温速率为0.5℃~3℃/小时;然后将温度降至室温,其降温速率为120℃~300℃/小时降至室温;c.其生长单晶体的分离是在室温下,从反应后的混合料块中,由料块自动破碎而与其分离的。
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