[发明专利]使用氟化氩光致抗蚀剂的方法和装置无效
| 申请号： | 97126153.9 | 申请日： | 1997-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN1187495A | 公开（公告）日： | 1998-07-15 |
| 发明（设计）人： | 郑载昌;卜哲圭;白基镐 | 申请（专利权）人： | 现代电子产业株式会社 |
| 主分类号： | C08F32/00 | 分类号： | C08F32/00;C08F18/24;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 丁业平 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种光致抗蚀剂,包括从双环烯衍生物、马来酸酐和/或碳酸亚乙烯酯制备的共聚物,其中共聚物分子量范围是3000—100000。该光致抗蚀剂可用于使用远紫外光作光源的亚微级平版印刷。除耐刻蚀性和耐热性高以外,该光致抗蚀剂具有良好粘附性并可在TMAH溶液中显影。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 氟化 氩光致抗蚀剂 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光致抗蚀共聚物，它是由一种或多种式II的双环烯化合物、式III的马来酸酐或式IV的碳酸亚乙烯酯聚合而得的：(式II)其中R代表氢或含有1-10取代或未取代碳原子的直链或支链烷基，且n是1或2，(式III)(式IV)
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