[发明专利]用于氧化物CMP的组合物有效
| 申请号： | 97181972.6 | 申请日： | 1997-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN1248994A | 公开（公告）日： | 2000-03-29 |
| 发明（设计）人： | 高坦·S·格罗弗;布赖恩·L·米勒 | 申请（专利权）人： | 卡伯特公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14;H01L21/3105 |
| 代理公司： | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人： | 巫肖南 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种包括可溶性铈化合物的pH高于3的化学机械抛光组合物,和一种在制造集成电路和半导体期间在一个步骤中将上面覆盖的二氧化硅层优先于氮化硅膜选择性抛光的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 氧化物 cmp 组合 | ||
【主权项】：
1.一种含水化学机械抛光组合物，包括：一种盐；可溶性铈；和羧酸，其中该组合物具有pH约3至约11。
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