[发明专利]清洗电子器件的喷砂介质及清洗方法无效
| 申请号： | 97194412.1 | 申请日： | 1997-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN1086610C | 公开（公告）日： | 2002-06-26 |
| 发明（设计）人： | 苯尼·S·亚姆;肯尼思·库尔伯特 | 申请（专利权）人： | 彻什－威特有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/00 | 分类号： | B08B3/00;B08B3/04;B08B7/00;B08B7/02;B24B3/00;B24C1/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王以平 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种清洗电子器件上污染物的方法和研磨喷砂介质。研磨喷砂介质是溶于水的纯净的碱性金属的碳酸或碳酸氢盐。该碱性金属盐颗粒直径为约20微米～约300微米。颗粒莫氏硬度不大于约5.0。清洗电子器件的喷砂清洗条件是缓和的。喷吹空气压力为约10～约50磅/平方英寸，介质流速为约1～约10磅/分钟。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 电子器件 喷砂 介质 方法 | ||
【主权项】：
1.一种清洗电子器件的喷砂介质，其中，包含大小至少为20微米但不大于300微米、莫氏硬度不大于5.0的、可溶于水的纯净碱性金属盐的磨粒，其氯离子浓度不大于100ppm、化学氧的浓度不大于100ppm、水分含量不高于0.20wt％，所述喷砂介质不含含有助流动剂的有机物和硅土。
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