[发明专利]在菲涅耳透镜模具上提供漫射竖面的方法无效
| 申请号： | 97194811.9 | 申请日： | 1997-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN1219243A | 公开（公告）日： | 1999-06-09 |
| 发明（设计）人： | 哈兰·L·科瑞克 | 申请（专利权）人： | 明尼苏达矿业和制造公司 |
| 主分类号： | G02B3/08 | 分类号： | G02B3/08 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 程伟 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在具有许多由竖面一一隔开的光学表面的菲涅耳透镜模具上提供漫射竖面的方法。该方法包括在许多光学表面和竖面上沉积漫射层,然后有选择地从这许多光学表面上除去漫射层,而竖面上的漫射层基本上保持完整无损。漫射层可以在基本上没有晶粒细化剂的电解槽中沉积。 | ||
| 搜索关键词： | 菲涅耳 透镜 模具 提供 漫射 方法 | ||
【主权项】：
1．一种在具有许多光学表面的菲涅耳透镜模具上提供漫射竖面的方法，其中毗邻光学表面被竖面隔开，该方法包括下述步骤：(a)在许多光学表面和竖面上沉积漫射层；以及(b)从该许多光学表面上除去漫射层，而在竖面上的漫射层基本保持完整无损。
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