[实用新型]生产核径迹膜的连续辐照装置无效

专利信息
申请号: 97219074.0 申请日: 1997-06-27
公开(公告)号: CN2304175Y 公开(公告)日: 1999-01-13
发明(设计)人: 张泉荣;严玉顺;万春荣;姜长印 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: G21K5/00 分类号: G21K5/00
代理公司: 清华大学专利事务所 代理人: 罗文群
地址: 10008*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型涉及一种生产核径迹膜的连续辐照装置,该装置由送膜轴、收膜轴、图案模板、驱动轴、张力轴、图案模板、集成铀靶和准直板组成。需辐照的塑料薄膜缠绕在送膜轴上,并依次经支撑轴、驱动轴后缠绕到收膜轴上。压紧轴将图案膜板和塑料薄膜压紧。集成铀靶、准直板、图案模板依次置于塑料薄膜的一侧,电机通过链条带动驱动轴和收膜轴。本装置可用于核反应堆或重离子加速器制造的核径迹膜的辐照,连续操作,自动控制,生产效率高。
搜索关键词: 生产 径迹 连续 辐照 装置
【主权项】:
1、一种生产核径迹膜的连续辐照装置,其特征在于该装置由送膜轴、收膜轴、图案模板、张力轴、驱动轴、压紧轴、图案模板、集成铀靶和准直板组成;需辐照的塑料薄膜缠绕在送膜轴上,塑料薄膜依次经支撑轴、驱动轴后缠绕到收膜轴上;图案膜板紧绷在支撑轴、驱动轴和图案模板张力轴上,压紧轴将图案模板和塑料薄膜压紧;集成轴靶、准直板、图案模板依次设置于塑料薄膜的一侧,图案模板紧靠塑料薄膜;电机通过链条带动驱动轴和收膜轴;
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