[发明专利]一种径迹蚀刻膜防伪标志及其制造方法无效
| 申请号： | 98100453.9 | 申请日： | 1998-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN1201214A | 公开（公告）日： | 1998-12-09 |
| 发明（设计）人： | 梁立军 | 申请（专利权）人： | 清华紫光(集团)总公司 |
| 主分类号： | G09F3/02 | 分类号： | G09F3/02 |
| 代理公司： | 清华大学专利事务所 | 代理人： | 廖元秋 |
| 地址： | 10008*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明属径迹蚀刻膜应用技术领域。它由一普通商标或标志与覆着其上的一层径迹蚀刻膜组成,制造方法为将尺寸相同的一径迹蚀刻膜覆盖在一标志表面,再将该膜的四周与标志的四周粘接在一起。本发明具有既不容易被仿制,又容易被消费者鉴别,且制造简单、价格低廉但又易于控制,适于推广使用的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 径迹 蚀刻 防伪 标志 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种径迹蚀刻膜防伪标志，其特征在于由一普通商标或标志与覆着其上的一层径迹蚀刻膜组成。
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