[发明专利]核径迹防伪膜的制造方法

摘要

本发明涉及一种核径迹防伪膜的制造方法,该方法是利用核反应裂变碎片照射塑料薄膜,以产生核径迹,然后利用紫外线照射塑料薄膜,再用印刷机将抗蚀刻剂按防伪图案要求印刷在塑料薄膜的正、反面同一位置上,最后用化学试剂进行选择性蚀刻,洗涤晾干即可。利用本发明方法制备的防伪膜,图案清晰、精细,而且生产设备简单,成品率高,易于实现规模化生产。

主权项

1、一种核径迹防伪膜的制造方法，包括：(1)选用厚度为5-25μm的透明塑料薄膜为原材料，利用核反应堆产生的中子轰击铀-235靶，裂变产生的碎片照射塑料薄膜，以产生核径迹，反应堆功率为1-5000千瓦，辐照时间为0.1-300秒，或利用重离子加速器产生的重离子来辐照塑料薄膜，辐照时间为0.5-200秒，核径迹密度为104-108/cm2；(2)利用紫外光对辐照过的塑料薄膜进行再照射，紫外线灯功率为100-6000瓦，灯与薄膜的距离为5-50cm，照射时间为1秒-18分钟；其特征在于还包括：(3)利用印刷机将抗蚀刻剂按图案要求在塑料薄膜的正、反面同一位置上对正印刷，抗蚀刻剂为聚酰胺树脂、聚氯乙烯树脂或氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚树脂高分子聚合物溶于乙醇、甲苯、二甲苯、异丙醇、丁醇、苯丁醇、环己酮、丙酮、醋酸丁酯、醋酸异丁酯或醋酸乙酯溶剂所得的溶液；(4)利用化学试剂对塑料薄膜进行选择性蚀刻，蚀刻剂为NaOH(6-8M)、KOH(6-8M)或H2SO4(6-16M)，蚀刻时间为1-180分钟，蚀刻温度为70-90℃，蚀刻出清晰图案后，洗涤晾干，形成核径迹防伪膜。