[发明专利]光波导器件的生产方法无效
| 申请号： | 98103043.2 | 申请日： | 1998-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN1206841A | 公开（公告）日： | 1999-02-03 |
| 发明（设计）人： | 李泰衡;李炯宰;俞炳权 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G02B6/13 | 分类号： | G02B6/13 |
| 代理公司： | 中科专利代理有限责任公司 | 代理人： | 刘晓峰 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于制造不需诸如电极的外偏置的光波导器件的简化方法,其中光波导器件具有下包层、光波导及下包层。该方法包含如下步骤(a)在平面基片上形成下包层;(b)在下包层上形成光波导层;(c)在光波导层上形成上包层;(d)在上包层上形成预定的光波导图形;(e)根据光波导图形蚀刻上包层及光波导层;及(f)在蚀刻所得结构上形成材料层。从而可减少对光波导的损害及外力对其的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 波导 器件 生产 方法 | ||
【主权项】：
1、一种生产具有下包层、光波导及上包层的光波导器件的方法，其特征在于该方法包含如下步骤：(a)在平面基片上形成下包层；(b)在下包层上形成具有比下包层低的折射率的光波导层；(c)在光波导层上形成上形成具有比光波导层低的折射率的上包层；(d)在上包层上形成预定的光波导图形；(e)根据光波导图形蚀刻上包层及光波导层；及(f)在蚀刻形成的结构上形成与上包层具有相同材料的材料层。
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