[发明专利]用于微电子工业的高纯化学品的制备方法和装置无效
| 申请号： | 98109442.2 | 申请日： | 1998-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN1204550A | 公开（公告）日： | 1999-01-13 |
| 发明（设计）人： | T·拉德里奇;H·杜菲 | 申请（专利权）人： | 拉贝勒公司 |
| 主分类号： | B01F1/00 | 分类号： | B01F1/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 郭建新 |
| 地址： | 法国勒邦*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种可用于微电子工业的高纯液体化学品的制备方法,其特征在于该方法从一种化学品气体开始,该气体逆流流过最初的去离子高纯水溶液而在两个纯化塔中连续地进行纯化,所述去离子水逐渐充满杂质,同时离开第二纯化塔时的气体具有高的纯度,尤其是金属元素的含量低,和特征在于在填料塔内接着将纯化气体溶解,收集于塔的底部并富含纯化的化学气体的液体连续地再循环到填料塔中,和特征在于当已达到溶解气体的浓度时,接着分配高纯化学品。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 微电子 工业 高纯 化学品 制备 方法 装置 | ||
【主权项】：
1．一种可用于微电子工业的高纯液体化学品的制备方法，其特征在于该方法从一种化学品气体开始，该气体逆流流过最初的去离子高纯水溶液而在两个纯化塔中连续地进行纯化，所述去离子水逐渐充满杂质，同时离开第二纯化塔时的气体具有高的纯度，尤其是金属元素的含量低，和特征在于在填料塔内接着将纯化气体溶解，收集于塔的底部并富含纯化的化学气体的液体连续地再循环到填料塔中，和特征在于当已达到溶解气体的浓度时，接着分配高纯化学品。
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