[发明专利]构成阴极射线管中红滤光膜的方法无效
| 申请号： | 98114955.3 | 申请日： | 1998-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN1232283A | 公开（公告）日： | 1999-10-20 |
| 发明（设计）人： | 金基俊;崔鸿奎;金铉真 | 申请（专利权）人： | 三星电管株式会社 |
| 主分类号： | H01J9/227 | 分类号： | H01J9/227 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 卢新华,王其灏 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了一种构成阴极发射管(CRT)中的红滤光膜的方法。此方法包括的步骤为将包括一种以通式(1)表示的化合物(PVA－SbQ)的负光致抗蚀剂组合物沉积在一种具有黑底图象的屏板上,构成光致抗蚀剂层,再使该光致抗蚀剂层的某预定部位进行曝光,和将一种红颜料组合物涂敷在此光致抗蚀剂层上,进行干燥和接着显影所得的结构,其中1∶m∶n为1.0—4.5∶70.0—98.0∶1.0—20.0。由于略去了形成绿及蓝荧光屏图象的显影步骤,可简单地就形成红滤光膜,这是由于采用了一种其硬化部位非常弱地粘结在彩色滤光膜上的负光致抗蚀剂组合物的缘故。 | ||
| 搜索关键词： | 构成 阴极射线管 滤光 方法 | ||
【主权项】：
1、一种形成红滤光膜的方法，包括步骤：将一种包括如下通式(1)表示的一种化合物(PVA-SbQ)的负光致抗蚀剂组合物涂敷于具有黑底图象的屏板上，形成一层光致抗蚀剂层，和对该光致抗蚀剂层上某预定部位进行曝光；和将一种红颜料组合物涂敷于此光致抗蚀剂层上，进行干燥，接着显影此所得的结构：其中l∶m∶n为1.0-4.5∶70.0-98.0∶1.0-20.0。
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