[发明专利]制作抛光陶瓷铺砌层和涂层的工艺无效
申请号: | 98115207.4 | 申请日: | 1998-06-22 |
公开(公告)号: | CN1220982A | 公开(公告)日: | 1999-06-30 |
发明(设计)人: | 卡尼塞尔·M·奥斯卡 | 申请(专利权)人: | 埃米格雷斯公司 |
主分类号: | C04B41/81 | 分类号: | C04B41/81 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 孙征 |
地址: | 西班牙卡*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 制作抛光陶瓷铺砌层和涂层的工艺,该铺砌层或涂层的基本部分由适于抛光的一段(1)和构成该段支持体的另一段(2)组成,该工艺包括原材料的制备(3),支持段(2)中的制备在于天然和矿物粘土的不同混合,而抛光段(1)中原材料由精选物和着色混合物或非天然原料组成;干压步骤(4)通过双向加压允许基本部分的(1),(2)段之间有一差别;干燥步骤(5);修饰步骤(6)用可溶性盐渗入部分表面;在装有辊的炉子内的焙烧步骤(7)通过研磨抛光的抛光步骤(8)。 | ||
搜索关键词: | 制作 抛光 陶瓷 铺砌 涂层 工艺 | ||
【主权项】:
1.制作抛光陶瓷铺砌层和涂层的工艺,其特征在于,抛光陶瓷铺砌层或涂层由几部分组成,这些部分由适于抛光的段(1)和另一段(2)组成,所说段(1)置于另一段(2)上,该段(2)构成前段(1)的支持体,在这个工艺中设想有许多步骤,这些步骤基本上包括原材料的制备(3),在支持段(2)中,这种制备在于天然的和矿物粘土的不同混合,而在抛光段(1)中,其原材料由粘土、高岭土、长石和其它在焙烧后适于抛光的原料组成;该工艺还包括干压步骤(4),该步骤通过双向加压以区别该部分的两段(1,2)并方便其获得;该工艺还包括干燥步骤(5),在干燥器中各部分的干燥使其上保留的湿气去除;该工艺还包括修饰步骤(6),此步骤是用可溶性盐渗透至该部分的表面;该工艺还包括在装有辊的炉子内焙烧的焙烧步骤(7);及通过研磨的方法来抛光的抛光步骤(8)。
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