[发明专利]化学机械研磨机台有效
| 申请号： | 98116968.6 | 申请日： | 1998-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN1080619C | 公开（公告）日： | 2002-03-13 |
| 发明（设计）人： | 刘尹智 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 李晓舒 |
| 地址： | 台湾省新竹*** | 国省代码： | 台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种化学机械研磨机台，有一履带式调节刷，其至少包括一长轴主体结构；一履带，其上分布有多个硬颗粒及多个滚轮，履带包覆于长轴主体外侧，以一固定速率转动，滚轮轴向均平行排列，其均位于履带内侧且与履带相接触，滚轮由履带带着转动，在履带上还有多个硬颗粒，其分布于履带的表面，用以刮平研磨垫的表面，去除残留在研磨垫上的杂质，在履带式调节刷上还包括一清洗装置。其可在调节刷刮平时，清洗残留在履带上的杂质。$#! | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械 研磨 机台 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械研磨机台，其特征在于，该机台包括：一研磨台，以一固定方向旋转；一研磨垫，设于该研磨台上；一握柄，用以抓住一晶片的背面，将该晶片的正面压在该研磨垫上；一履带式调节刷，置于该研磨垫上，用以刮平该研磨垫的表面，去除残留在该研磨垫上的杂质；以及一管件，置于该研磨垫上方，用以输送一研磨液至该研磨垫。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司，未经台湾积体电路制造股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/98116968.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
