[发明专利]用于短波长光的负型光致抗蚀剂组合物及其形成图像的方法无效
| 申请号： | 98117484.1 | 申请日： | 1998-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN1209570A | 公开（公告）日： | 1999-03-03 |
| 发明（设计）人： | 岩佐繁之;前田胜美;中野嘉一郎;长谷川悦雄 | 申请（专利权）人： | 日本电气株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/04 | 分类号： | G03F7/04 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王其灏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种负型光致抗蚀剂组合物,由以下成分组成含有由化学通式(1)所示重复单元的聚合物,由含有化学通式(2)所示官能团的化合物组成的交联剂,和响应光而产酸的光－酸发生剂。化学通式(1)和(2)如下,式中的R1,R2和R8如说明书中所述。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 波长 负型光致抗蚀剂 组合 及其 形成 图像 方法 | ||
【主权项】：
1．一种负型光致抗蚀剂组合物，包括：含有由化学通式(1)所示重复单元的聚合物；由含有化学通式(2)所示官能团的化合物组成的交联剂；和响应光而产酸的光-酸发生剂，化学通式(1)中，R1是氢原子或甲基，R2是含有7-18碳原子并具有桥接的环烃基的亚烷基，且聚合物的重均分子量为1000-500000，并且化学通式(2)中，R8是氢原子或者含有1-6碳原子的烷基或含有3-6碳原子的氧代烷基。
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