[发明专利]沸水反应器的锻造的整体式罩凸缘无效
| 申请号： | 98118543.6 | 申请日： | 1998-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN1221195A | 公开（公告）日： | 1999-06-30 |
| 发明（设计）人： | 松本俊男杰克;A·B·法伊夫 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | G21C19/00 | 分类号： | G21C19/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 崔幼平,黄力行 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一锻造的上罩段(200),其可以由一块矩形横剖面的环形锻件机加工而成,它包括一圆形凸缘(202)和一圆柱形罩壳(204)。在凸缘(202)上机加工出孔和缝槽(206),以便对正并支撑罩头。沿着圆柱形罩段(204)的内表面(210)机加工出一沟槽(208),该沟槽(208)可以用于支撑顶部引导隔栅。圆柱形罩段(204)的一端(212)机加工出一预备部分,用于连接罩的芯段。 | ||
| 搜索关键词： | 沸水 反应器 锻造 整体 凸缘 | ||
【主权项】：
1．一种沸水反应器(100)的罩(112)的锻造的上罩段(200)，所述上罩段(200)包括：一圆柱罩壳(204)；和在所述罩壳(204)的一端上的一圆形凸缘(202)，所述凸缘(202)与所述罩壳(204)成一体。
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