[发明专利]用于制造半导体器件的显影系统及其控制方法无效
| 申请号： | 98120040.0 | 申请日： | 1998-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN1125376C | 公开（公告）日： | 2003-10-22 |
| 发明（设计）人： | 安雄宽;金东浩 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30;H01L21/02 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 谢丽娜 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供制造半导体器件的显影系统，包括：容器，用于装显影剂，上侧有一供晶片通过的开孔，下侧有一排放口；晶片传送器，可将晶片图形表面的背面朝下吸附，将晶片装入或取出容器；显影剂提供元件，在容器中提供显影剂，将晶片图形表面浸在显影剂中；一漂洗剂提供元件，向容器中提供漂洗剂，向晶片图形表面上喷射漂洗剂；清洗剂提供元件，向容器中提供清洗剂，除去保留在容器中的显影剂和漂洗剂；气体提供元件，向容器中提供气体，通过高压气体除去保留在容器中的清洗剂。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 半导体器件 显影 系统 及其 控制 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于制造半导体器件的显影系统，包括：一容器，用于盛装显影剂，其上侧带有一供晶片通过的开孔，其下侧有一排放口；一晶片传送器，它通过开口将晶片图形表面的背侧朝下吸附，从而将晶片装入或取出容器；一显影剂提供元件，用于在容器的下侧上提供一定量的显影剂，从而将晶片的图形表面浸在显影剂中；一漂洗剂提供元件，用于向容器中提供漂洗剂，从而向晶片图形表面上喷射漂洗剂；一清洗剂提供元件，用于向容器中提供清洗剂，从而除去保留在容器中的显影剂和漂洗剂；一气体提供元件，用于向容器中提供气体，从而通过高压气除去保留在容器中的清洗剂。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社，未经三星电子株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/98120040.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：滚轮讯号游标控制方法
- 下一篇：一种醋酸饮料及其制备方法
