[实用新型]一种全息光刻系统无效
| 申请号： | 98228987.1 | 申请日： | 1998-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN2351773Y | 公开（公告）日： | 1999-12-01 |
| 发明（设计）人： | 冯伯儒;张锦;侯德胜;陈芬;王永茹 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03H1/00 | 分类号： | G03H1/00 |
| 代理公司： | 中国科学院成都专利事务所 | 代理人： | 张一红,孙媛璞 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种全息光刻系统,属于应用激光全息技术对微细图形光刻系统的改进。其特征是激光器发出的光经扩束准直后,全息记录时光束经分束器后的两个光路产生的参考光束和物光束在涂胶基片的光刻胶面处产生干涉条纹,从而制得全息掩模;全息再现时,光束经光路从共轭方向入射,通过直角棱镜经全息掩模衍射产生的光信号到达涂胶基片的胶面,从而完成全部全息光刻曝光。具有易实现大视场高分辨率光刻曝光等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 全息 光刻 系统 | ||
【主权项】：
1．一种全息光刻系统，包括有激光器、光掩模以及涂有光刻胶的基片，其特征在于：由激光器(1)、扩束准直器(2)、分束器(3)以及减光板(10)、可转动的全反射镜(4)、直角棱镜(6)、涂胶基片(7)(14)以及减光板(11)、光程调节装置(9)和光掩模(8)组成；a．激光器(1)发出的光经扩束准直器(2)后，经分束器(3)分成两束光：一束光经减光板(10)和可转动的全反射镜(4)到达并通过直角棱镜(6)照射到涂胶基片(7)上，为全息记录的参考光束；另一束光由减光板(11)和光程调节装置(9)从下向上照明光掩模(8)，经光掩模(8)产生衍射，照射到涂胶基片(7)的胶面上，为全息记录的物光束；参考光束与物光束在涂胶基片(7)的光刻胶胶面处产生干涉，得到全息掩模(13)；b．激光器(1)发出的光经扩束准直器(2)后，经全反射镜(12)、减光板(10)、可转动全反射镜(4)和固定全反射镜(5)从共轭方向入射到达并通过直角棱镜(6)照射到全息掩模(13)上，经全息掩模(13)衍射产生的光信号到达涂胶基片(14)的胶面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院光电技术研究所，未经中国科学院光电技术研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/98228987.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
