[发明专利]气体分析方法及设备无效
| 申请号： | 98800447.X | 申请日： | 1998-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN1222974A | 公开（公告）日： | 1999-07-14 |
| 发明（设计）人： | 吴尚谦;森下淳一;石原良夫;君岛哲也 | 申请（专利权）人： | 日本酸素株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/35 | 分类号： | G01N21/35;G01N21/39 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 邹光新,张志醒 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种分析气体中杂质的方法,包括以下步骤将含有杂质的气体引入第一气室(2);将无杂质的气体引入第二气室(3);保持第一和第二气室中的气压相等;从光辐照装置(1)射出光束;利用分光装置(4)将光束分开,使第一光束透过第一气室,第二光束透过第二气室;利用第一测量装置(5)测量透过第一气室的光线强度,利用第二测量装置(6)测量透过第二气室的光线强度;根据第一测量装置和第二测量装置的测量数据之间的差异确定气体中杂质的吸收谱。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 分析 方法 设备 | ||
【主权项】：
1．一种分析气体中杂质的方法，包括以下步骤：将含有杂质的气体引入第一气室；将无杂质的气体引入第二气室；保持第一和第二气室中的气压相等；从光辐照装置射出光束；利用分光装置将光束分开，使第一光束透过第一气室，第二光束透过第二气室；利用第一测量装置测量透过第一气室的光线强度，利用第二测量装置测量透过第二气室的光线强度；根据第一测量装置和第二测量装置的测量数据之间的差异确定气体中杂质的吸收谱。
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