[发明专利]制备一种多层的、并经紫外线照射交联化/致密的光学材料的方法以及由该方法制备的光学材料有效
| 申请号： | 98802337.7 | 申请日： | 1998-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN1247522A | 公开（公告）日： | 2000-03-15 |
| 发明（设计）人： | P·贝勒维尔;P·普雷内 | 申请（专利权）人： | 法国原子能委员会 |
| 主分类号： | C03C17/34 | 分类号： | C03C17/34;G02B1/10;G02B1/11 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 吴大建 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种制备光学材料的方法,其中将至少两层无机聚合物质沉积在一个基质上,每一薄层都是以至少一种金属氧化物或准金属氧化物为基,上述沉积的薄层都经受紫外线照射而致密/交联化。本发明还涉及用上述方法制备的光学材料。用这种方法制备的光学材料主要是多层材料,例如防反射材料以及反射材料。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 一种 多层 紫外线 照射 交联 致密 光学材料 方法 以及 | ||
【主权项】：
1.制备一种光学材料的方法，其中把至少两个以至少一种金属氧化物或准金属氧化物为基的薄层沉积在一个基质或基体上，其特征在于上述薄层是由前体溶液沉积的，该前体溶液并无受光照射，但该沉积的薄层在常温下通过紫外线照射后被致密/交联化。
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