[发明专利]用于流体接触的方法和装置无效
申请号: | 98802384.9 | 申请日: | 1998-10-09 |
公开(公告)号: | CN1247482A | 公开(公告)日: | 2000-03-15 |
发明(设计)人: | 庄子棠;潘国昌 | 申请(专利权)人: | AMT国际股份有限公司 |
主分类号: | B01F3/04 | 分类号: | B01F3/04 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 顾峻峰 |
地址: | 美国得*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种用于流体接触的塔柱包括一开口的盖板(21),它位于一塔盘开口(10)的上方,并固定在开口(10)内。偏转构件(224、225、226)跨越盖板(21)的各开口(200、201、202)的上方,用以防止泄流直射并撞击上层塔盘的底部。偏转构件(224、225、226)还提供一个能使向上流过开口(200、201、202)的较轻、较细小的泄流(11)偏转而流向盖板(21)的中心区域并进入沿塔板流动的较重流体内的表面。盖板(21)借助与之形成一体的腿部(23)而定位在塔盘开口的上方,并且可以在塔盘开口内固定或滑动。 | ||
搜索关键词: | 用于 流体 接触 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种流体接触塔柱、塔盘开口的流体扩散装置,包括:a.一用于塔盘开口的盖板,所述盖板包含至少一个泄流开口;b.用于在工作时将盖板定位在塔盘开口上方的装置,借以在所述盖板和塔板之间形成若干个让流体向上流过塔盘开口的流体逸出通道;c.对至少一个流体开口而言,一泄流偏转构件从一侧到另一侧地跨越流体开口,从而形成至少两个相对的出口,这样就有至少两股独特的泄流相互离开地在盖板中心区域上流动;以及d.所述每一股独特的泄流在尺度上不同于向上流过所述流体逸出通道的流体流。
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