[发明专利]在同一衬底上制造异质结双极型晶体管和激光二极管无效
申请号: | 98802409.8 | 申请日: | 1998-02-06 |
公开(公告)号: | CN1120522C | 公开(公告)日: | 2003-09-03 |
发明(设计)人: | P·埃瓦尔德松;U·艾利森 | 申请(专利权)人: | 艾利森电话股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/20 | 分类号: | H01L21/20;H01L21/22;H01L21/328;H01S5/32;H01L33/00;H01L25/16 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 邹光新,李亚非 |
地址: | 瑞典斯德*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 异质结双极型晶体管HBT和激光二极管LD由包括多个半导体层(1-9)的公用外延结构制作。晶体管可以由外延步骤结束之后得到的材料直接制作。为制作激光二极管,需要通过向材料中扩散(21)锌来改变结构,这样最顶层材料层的掺杂剂类型将由n-型转变为p-型。这是在晶片上的选定区域内进行的,这样,晶体管和激光二极管可以单片集成在一起。激光器的有源区(5)位于晶体管的集电极(3-5),这为元件的设计提供了一定的自由度,并且可以对两个元件分别进行优化。因此,激光器和HBT可以具有相同的结构,如同它们分别得到优化一样。例如,激光器可以是垂直注入型,因此,可以得到与分立激光器相同的性能。 | ||
搜索关键词: | 同一 衬底 制造 异质结双极型 晶体管 激光二极管 | ||
【主权项】:
1.一种在同一衬底上制造晶体管和激光二极管的方法,所述衬底具有一个表面,其特征在于以下步骤:首先在衬底的上述表面上制作多层半导体层序列,和在所述多层半导体层序列中,选择分别在两个相邻层之间形成一个异质结和在一组相邻层中形成量子阱的多层半导体层序列区域,在所述量子阱中形成有有源区,其特征在于,所述被选择的多层半导体层序列区域中的层的次序、组分、掺杂剂适于进行以下的步骤:在所述衬底表面横向限定一个区域,其中所述一个区域中被限制的层形成一个异质结晶体管结构,其中的异质结位于晶体管的发射极和基极之间;向所述多层半导体层序列的另一个区域中的顶层中的选定区域扩散掺杂剂以改变所述另一个区域中的顶层中的掺杂类型,所述另一个区域与所述一个区域横向隔离并分开,和横向限制所述另一个区域使所述另一个区域中的被限制的层根据上述量子阱结构和有源区结构形成激光器结构。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造